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고출력 uv 레이저 마킹 우드
Feb 27 , 2023
고출력 uv 레이저 마킹기는 고에너지 밀도 레이저로 공작물을 조사하여 표면 재료를 빠르게 증발시켜 일부 가공 목재 제품의 기계적 압출 및 변형 문제를 피할 수있는 조각 및 마킹 효과를 얻습니다. 또한 전용 목재 레이저 마킹기는 다양한 절묘한 패턴을 조각하고 표시할 수 있으며, 이는 기존의 기계
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RFH 15W 고출력 UV 레이저 스크라이빙 웨이퍼
Mar 03 , 2023
RFH 15W High Power UV Laser Scribing Wafers Wafer is the purification of silicon element. Pure silicon is made into growing silicon crystal rod, which becomes a quartz semiconductor material widely used in various fields. After multiple processes, it is cut into wafers and made into silicon wafers. Wafers are used in many high-tech products, especially in the field of electronic products. 최...
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RFH 3W 5W 10W UV 레이저는 흑화 없이 유리 필름의 가장자리를 절단합니다.
Mar 04 , 2023
RFH 3W5W10W UV laser cuts the edge of the glass film without blackening What is glass film? The glass film is so important, so we need to know how to give the glass film. As a very important process in glass production, glass film is to cover some adhesive films with specific functions on the glass surface, and a "glass film machine" is needed at this time. ▼Glass film ...
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STC 시리즈 355nm UV 고체 레이저 및 RFH uv 레이저란?
Mar 23 , 2023
STC 시리즈 355nm UV 고체 레이저 레이저 헤드와 전원 공급 장치는 개별적이며 레이저 헤드는 콤팩트합니다. 레이저는 내장 패널과 RS232를 통해 제어됩니다. 3C 전자 응용 분야 및 금속 및 비금속의 레이저 마킹, 3D 인쇄, 표면 필름 제거 등에 널리 사용됩니다. 2007년부터 RFH는 중국 최고의 고체 자외선 레이저에 집중하고 있습니다. RFH uv 레이저 각인 비취 케이스에 감사드립니다. S9 시리즈 3W 5W 10W UV 레이저 시장 수요를 충족하기 위해 RFH는 2020년에 S9 시리즈 UV 레이저를 새로 개발했습니다. S9 시리즈 UV 레이저는 동급 제품과 비교할 때 견고한 밀봉 캐비티, 매우 작은 크기, 단순하고 견고하며 높은 안정성, 고효율, 높은 신뢰성 및 우수한 레이저 ...
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Edmund Optics 355nm 고체 레이저 및 RFH uv 레이저
Mar 23 , 2023
Edmund Optics 355nm Solid State Laser는 다이오드 펌핑 방식이며 Q-Switched 펄스의 주파수 변환을 통해 UV 광선을 생성합니다. RFH는 17년 동안 고체 레이저 에 중점을 두고 있으며 RFH 레이저 회사는 광범위한 상업, 산업 및 과학 응용 분야를 위한 355nm 자외선 레이저, 532nm 녹색 레이저 및 맞춤형 레이저
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Coherent의 UV 레이저 355nm 100mW
Mar 23 , 2023
Genesis CX SLM-시리즈 단일 세로 TEM00 모드는 단일 주파수 및 간섭계 애플리케이션을 위한 것이며 최대 4W의 출력 파워. 코히런트의 고유한 OPSL(Optically Pumped Semiconductor Laser) 기술을 기반으로 하는 Genesis CX SLM 시리즈는 가장 까다로운 응용 분야를 위한 단일 주파수 작동을 특징으로 합니다. 이것은 출력 전력 전반에 걸쳐 안정적인 빔 매개변수, 회절 제한 빔, 최저 노이즈 및 높은 안정성과 결합하여 편리한 패키지에서 비교할 수 없는 레이저 성능을 제공합니다. 또한 Genesis CX SLM 시리즈는 전면 패널 인터페이스가 있거나 없는 상태로 제공됩니다. 그러나 이 소프트웨어는 기존 디자인과 인터페이스할 수 있을 뿐만 아니라 독립형...
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RPMC 자외선 레이저란?
Mar 24 , 2023
RPMC 자외선 레이저란? 자외선 레이저(UV 레이저) emit UV laser light, typically in the range of 200 nm to 389 nm. UV lasers offer extremely high photon energy, which opens up a wide range of applications that visible and infrared laser sources can’t address. The most common UV laser sources are the third and fourth harmonics on Nd: YAG, providing 355 nm and 266 nm wavelengths, respectively. It’s important to...
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Ekspla NL200 시리즈 DPSS 공랭식 나노초 레이저 정보
Mar 24 , 2023
NL200 시리즈 DPSS 공랭식 나노초 레이저는 kHz 반복률에서 높은 펄스 에너지를 제공합니다. End-pumped 설계로 인해 이 레이저는 산업 및 R&D의 다양한 레이저 장비에 컴팩트하고 쉽게 통합됩니다. 짧은 나노초 펄스 지속 시간, 가변 반복률 및 외부 TTL 트리거링을 특징으로 하는 나노초 다이오드 펌핑 NL200 시리즈 Q 스위치 레이저는 재료 가공, LCD 및 OLED 디스플레이 패널과 같이 더 높은 펄스 에너지가 필요한 특정 응용 분야를 위한 우수하고 비용 효율적인 소스입니다. 수리, 절제, 마킹, 제판, 레이저 클리닝, 레이저 증착 등. 이 레이저는 532nm, 355nm, 266nm 및 213nm 파장에 대한 고조파 생성 모듈을 장착할 수 있습니다. 뛰어난 에너지 안...
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AVIA LX 나노초 레이저 - 코히런트
Mar 24 , 2023
AVIA LX Nanosecond Lasers - Coherent PCB/SIP 드릴링, 절단, 트렌칭, 디패널링과 더불어 Flex/LCP/LTCC 처리를 수행하여 열 영향 영역을 최소화하고 사후 세척이 필요하지 않습니다. AVIA LX는 높은 펄스 에너지와 반복률을 UV 및 녹색 출력과 결합하여 세미 팹, 고급 패키징 및 태양 전지 제조에서 신속하고 정밀한 재료 처리를 가능하게 합니다. 고출력 레이저 소스에 탁월한 신뢰성을 제공합니다. 게다가 RFH는 중국 최고의 고체 자외선 레이저 제조업체입니다. 이제 20watt 고출력 uv 레이저 소스 로 세라믹을 절단하는 방법을 보여 드리겠습니다. 20w uv 레이저는 무엇입니까: https://www.rfhtech.com...
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IPG UV 레이저 마킹 모듈을 사용한 통합 2축 스캐닝
Mar 27 , 2023
IPG UV 레이저 마킹 모듈을 사용한 통합 2축 스캐닝 IPG Photonics는 하나의 컴팩트하고 비용 효율적인 패키지에 완전한 UV 레이저 마킹 모듈을 제공함으로써 레이저 마킹 통합업체 및 OEM에 용이성과 유연성을 제공합니다. 이 모듈은 2축 스캐닝 시스템과 완전히 통합된 IPG 차세대 UV 펄스 파이버 레이저로 구성됩니다. 스캐닝 서브 모듈의 빠르고 정확한 포지셔닝과 결합된 IPG 레이저의 높은 펄스 에너지는 품질 저하 없이 높은 마킹 속도를 제공합니다. 이 모듈에는 제어 전자 장치, 스캐닝 광학 장치 및 다목적 마킹 소프트웨어도 포함되어 있습니다. 이 완전한 모듈은 통합자가 레이저 마킹 제품을 향상시키는 데 도움이 되도록 완전히 최적화되고 사전 보정되고 설계되었습니다. &...
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초소형 UV 나노초 레이저 MKS Instruments의 Spectra-Physics® Explorer® One™ HP HE 355-200
Mar 27 , 2023
초소형 UV 나노초 레이저 MKS Instruments의 Spectra-Physics® Explorer® One™ HP HE 355-200은 고에너지 자외선 레이저로 현재 Explorer One HP 초소형 활성 Q 스위치 레이저 라인보다 펄스 에너지가 3.5배 높습니다. 레이저는 200μJ 이상의 펄스 에너지, 4W 이상의 평균 전력, 15ns 미만의 펄스 폭 및 동적 폐쇄 루프 펄스 에너지 제어를 달성합니다. E-Track™ 능동 펄스 에너지 제어는 최적의 프로세스 제어를 위해 다양한 게이팅 작업으로 동적 펄스 에너지 조정을 가능하게 하는 폐쇄 루프 알고리즘을 특징으로 합니다. 잠재적인 응용 분야에는 박막의 구조화 및 제거, 마이크로 저항기 및 커패시터의 트리밍, 의료 기기, 플라스틱 및 유리의 고대비 ...
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Crystal Laser Systems의 UV 나노초 고체 레이저의 소형 MOPA 시리즈
Mar 27 , 2023
The compact MOPA series of UV nanosecond solid-state lasers from Crystal Laser Systems GmbH feature wavelengths of 355, 266, and 213 nm. The laser systems are based on a diode-pumped, passively Q-switched YAG laser, which is followed by a diode-pumped optical amplifier. This MOPA principle enables higher pulse energies than those from unamplified systems. Different models with pulse energie...
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