펨토초 및 피코초 레이저를 포함한 초고속 레이저는 반도체, 평면 패널 디스플레이 및 다양한 박막 재료 처리와 같은 정밀 미세 가공 응용 분야에 이상적입니다.

응용 프로그램에는 다음이 포함될 수 있습니다.

정밀 미세 가공

스테인리스 스틸 또는 알루미늄의 블랙 마킹

표면 미세 구조화 및 텍스처링

다층 폴리머 필름 절단

배터리 및 얇은 금속 호일 절단

사파이어 LED 웨이퍼 스크라이빙

태양광, PV 또는 평면 패널 디스플레이용 박막 절제

금속, 폴리머 또는 유리의 정확한 마킹

세라믹 미세가공

초단파 펄스 처리

짧은 펄스 폭과 높은 반복률 덕분에 펨토초 레이저는 전통적으로 나노초 레이저를 활용해 온 응용 분야에서 뛰어납니다.

레이저 펄스가 몇 피코초 이하이면 재료 상호 작용이 너무 빨리 일어나 열이 이벤트 영역 밖으로 이동할 시간이 없습니다. 올바른 레이저, 광학 장치 및 설정을 사용하면 재료 가공 응용 분야에서 열 영향을 받는 영역을 제거하여 다음을 수행할 수 있습니다.

산성 에칭에서 발견되는 것과 동일한 높은 수준의 디테일로 금속 및 세라믹 에칭

나노초 레이저와 관련된 후처리 제거

상단 또는 하단 표면에 돌출된 가장자리 없이 얇은 금속 절단

절단 또는 조각 주위에 변색 후광이 없는 가공 재료

펨토초 레이저는 초단파 펄스의 다광자 흡수로 인해 폴리머, 유리 및 세라믹과 같은 재료를 처리하기 위해 나노초 레이저보다 파장에 덜 의존합니다. 다광자 흡수는 일반적으로 단파장 레이저의 높은 광자 에너지를 필요로 하는 큰 밴드 갭 에너지를 연결할 수 있습니다. 작은 스폿 크기가 필요한 경우 초단파 레이저에서도 단파장이 여전히 필요할 수 있습니다. 또한 이러한 레이저는 일반적으로 반복률이 높아 처리 속도가 빠릅니다.