유리에 마킹하는 355nm uv 고체 레이저 의 효과는 무엇입니까 ?

평면 유리의 UV 레이저 마킹은 레이저의 피크 출력, 초점이 맞춰진 지점의 크기 및 검류계의 속도와 직접적인 관련이 있습니다.

때때로 고출력 레이저의 빛이 유리 표면을 에칭하지 않고 직접 통과한다는 사실을 발견했습니다. 이는 레이저의 피크 출력이 충분하지 않거나 에너지 밀도가 충분히 집중되지 않았기 때문입니다. 피크 전력은 레이저 크리스탈, 펄스 폭 및 주파수의 영향을 받습니다. 펄스 폭이 좁고 주파수가 낮을수록 레이저의 피크 출력이 높아집니다.

일부는 유리 표면에 새겨질 수 있지만 여전히 새는 현상이 발생하고 펄스에 의해 형성된 일부 점이 유리에 가라앉아 내부 조각을 형성합니다. 이 경우 높은 피크 출력 레이저와 고배율 빔 확장을 사용하여 최적화할 수 있습니다. 처리 효과.

또한 레이저 빔이 유리 표면에 닿는 시간도 유리 표면의 식각 효과에 영향을 미칩니다. 접촉 시간이 너무 길면 유리 표면이 너무 깊게 부딪힐 수 있고 접촉 시간이 너무 짧으면 누출이 발생할 수 있습니다. 검류계의 스캐닝 속도를 적절한 값으로 변경하면 더 나은 처리 결과를 얻을 수 있습니다. 그러나 스캐닝 ​​속도는 레이저 자체의 주파수에 의해서도 영향을 받으며 주파수가 너무 낮으면 누출로 이어질 수도 있다는 점에 유의해야 합니다.

곡면 유리

굽힘력의 영향으로 인해 포커싱 스팟의 초점 깊이와 갈바노미터의 스캐닝 방법은 가공 효과, 즉 레이저의 피크 파워, 포커싱 스팟, 스캐닝 속도에 특히 중요합니다. 검류계, 검류계의 스캐닝 방법, 스폿의 초점 깊이 및 필드 렌즈의 범위. 등 영향을 받습니다. 에너지 밀도가 표준에 도달하면 유리 표면에 미치는 영향이 가장자리로 갈수록 악화되고 표면에서 처리할 수도 없습니다. 그 이유는 초점 심도가 너무 얕기 때문입니다. 초점 깊이는 레이저 빔의 M2 계수, 빔 익스팬더의 스폿 크기 및 필드 렌즈의 범위에 의해 영향을 받습니다. 빔 익스팬더의 배율과 필드 렌즈의 범위는 모두 초점 거리에 영향을 미칩니다.

10x 빔 확장에서는 에너지 밀도가 상대적으로 집중되고 표면이 섬세하지만 초점 심도가 얕기 때문에 양쪽 레이저가 표면에 작용하지 않습니다. 8x 빔 확장에서 현재 곡면 제품의 경우 초점 깊이와 에너지가 더 적합하고 마킹 효과가 더 좋습니다. 그러나 6배 빔 확장 초점 심도가 증가하고 에너지 밀도도 감소하므로 누출이 많고 효과가 좋지 않습니다.

결론적으로, 곡면이 크고 경도가 높은 유리 소재의 경우 빔 품질이 좋고 펄스 폭이 좁은 레이저를 선택해야 합니다. 이러한 제품을 처리하려면 적절한 빔 확장기 또는 3D 줌 검류계를 사용하는 것이 더 적절합니다. .