고출력 355 UV 레이저 헤드는 열이 적고 냉광 식각 가공 기술이 대중화되었습니다.
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고출력 355 uv 레이저 헤드는 열이 적고 냉광 식각 가공 기술이 대중화되었습니다.
고출력, 짧은 펄스, 높은 반복률, 20w 고출력 uv 레이저 헤드 선호
현대 산업의 요구 사항에 따라 자외선 레이저의 출력은 3w에서 30w 또는 심지어 40w로 증가하고 있으며 이는 레이저 작동 효율에 대한 높은 요구를 충족할 뿐만 아니라 이와 관련하여 RFH는 자외선 레이저의 연구 개발을 추가로 계획하고 고출력 자외선 레이저를 설계 및 개발했습니다.
RFH 고출력 uv 레이저 헤드는 R&D 경험이 10년 이상인 RFH Dr. 팀이 가장 진보된 uv 레이저 헤드 기술과 국내외 기계에 가장 적합한 부품 및 소프트웨어를 사용하여 개발 및 제조합니다. 고출력 uv 레이저 헤드는 고출력, 짧은 펄스 및 높은 반복률의 특성을 가지고 있으며 산업이 계속 발전함에 따라 오늘날 레이저 산업에서 확고한 발판을 얻을 수 있습니다.
레이저 에칭에 RFH 고출력 uv 레이저 헤드를 사용하면 비접촉 처리를 보장하고 유연성을 높이며 열 마케팅을 제거하고 레이저 파장 수준에서 작은 광판에 더 쉽게 집중할 수 있습니다. 고출력 uv 레이저 헤드는 제조업체가 드릴링, 스크라이빙, 에칭 및 절단의 우수한 치수 정확도를 얻을 수 있도록 돕고 광화학 작용과 냉간 가공의 상호 작용 하에서 현재 뜨거운 전자 장치에 있든 관계없이 무언의 효과를 얻을 수 있습니다. 반도체 재료. 시장은 또한 다른 분야에서 더 광범위하게 발전했습니다.
콜드 라이트 에칭은 더 단단한 재료의 표면에 조각 기술을 수행할 수 있어 제조업체가 제품의 외관을 개선하는 데 도움이 됩니다. RFH는 고출력 uv 레이저 헤드를 사용하여 레이저 산업의 발전에 다시 한 번 크게 기여했으며 많은 고객들로부터 호평을 받았습니다.
