10W-15W uv laser

수냉식 UV 레이저 소스 드릴링 실리콘 웨이퍼

반도체 제조 영역에서는 실리콘 웨이퍼 드릴링이 중심이 되면서 복잡함이 많습니다. 기술이 발전함에 따라 보다 정확하고 효율적인 드릴링 방법에 대한 수요가 증가하면서 혁신적인 솔루션인 수냉식 UV 레이저 소스가 등장하게 되었습니다. 이 최첨단 기술은 업계에 혁명을 일으켜 비교할 수 없는 성능, 정확성 및 신뢰성을 제공하고 실리콘 웨이퍼 드릴링 기술을 새로운 차원으로 끌어올렸습니다.

 

  • 레이저 파장:

    354.7nm
  • 평균 출력 전력:

    3W-10W @30kHz
  • 펄스 폭:

    <12ns @ 30kHz
  • 맥박 반복률:

    10-200kHz
  • 빔 품질(㎡):

    <1.2
  • 빔 직경:

    0.8±0.2mm Measured at window
  • 빔 전체 발산 각도:

    <2mrad
  • 빔 원형:

    >90%
  • 펄스 대 펄스 안정성:

    <2% RMS/@30kHz
  • 평균 전력 안정성:

    <5% RMS/8hr
  • 빔 포인팅 드리프트:

    <30μrad/℃
  • 편광 비율:

    >100:1
  • 편광 방향:

    Horizontal
  • 운영 임시 직원. & RH:

    10℃ to 30℃ | <80%
  • 보관 온도 & RH):

    -20℃ to 65℃ | <90 %
  • 전기 요구 사항:

    100-240VAC |50/60Hz | Single phase
  • 전력 소비:

    <500W
  • 보증:

    18months
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  • 제품 상세 정보
  • 동영상

자외선 레이저

수냉식 UV 레이저 소스 드릴링 실리콘 웨이퍼

강력한 정밀도: 수냉식 UV 레이저 소스로 실리콘 웨이퍼 드릴링에 혁명을 일으켰습니다.

반도체 제조 영역에서는 실리콘 웨이퍼 드릴링이 중심이 되면서 복잡함이 많습니다. 기술이 발전함에 따라 보다 정확하고 효율적인 드릴링 방법에 대한 수요가 증가하면서 혁신적인 솔루션인 수냉식 UV 레이저 소스가 등장하게 되었습니다. 이 최첨단 기술은 업계에 혁명을 일으켜 비교할 수 없는 성능, 정확성 및 신뢰성을 제공하고 실리콘 웨이퍼 드릴링 기술을 새로운 차원으로 끌어올렸습니다.

 

전통적으로 실리콘 웨이퍼 드릴링은 복잡하고 시간이 많이 소요되는 프로세스였으며 종종 열 손상, 잔해 축적, 불규칙한 구멍 모양과 같은 문제로 인해 어려움을 겪었습니다. 그러나 수냉식 UV 레이저 소스의 도입으로 이러한 장애물이 극복되어 매번 탁월한 결과를 보장하는 드릴링에 대한 획기적인 접근 방식이 가능해졌습니다.

 

이 혁신적인 기술의 핵심에는 수냉식 UV 레이저 소스 의 탁월한 성능이 있습니다. 고에너지 자외선을 활용하는 이 레이저 소스는 실리콘 웨이퍼의 무결성을 손상시키지 않고 정밀한 재료 제거를 허용하는 집중되고 제어된 빔을 제공합니다. 제조업체는 이 고급 광원의 강점을 활용하여 가장 복잡한 패턴에서도 깨끗하고 균일한 구멍을 만들어 완제품의 최적의 기능과 성능을 보장할 수 있습니다.

 

수냉식 UV 레이저 소스가 제공하는 정밀도는 비교할 수 없습니다. 집중된 빔은 미크론 수준의 드릴링 정확도를 보장하므로 오류가 발생할 여지가 거의 없습니다. 이렇게 높아진 정밀도 덕분에 제조업체는 마이크로 전자 공학 및 기타 최첨단 기술의 발전에 중요한 최대한의 제어와 일관성으로 마이크로 크기의 구멍을 만들 수 있습니다. 이러한 엄격한 기술을 사용함으로써 수냉식 UV 레이저 소스는 제조업체가 혁신의 한계를 뛰어넘어 디지털 시대의 점점 증가하는 요구 사항을 충족할 수 있도록 지원합니다.

 

또한 이 레이저 소스의 수냉식 기능은 성능과 신뢰성을 향상시킵니다. 시스템을 통해 냉각수를 순환시킴으로써 드릴링 과정에서 발생하는 과도한 열이 효율적으로 방출됩니다. 이 중요한 냉각 메커니즘은 실리콘 웨이퍼의 열 손상 위험을 완화하여 구조적 무결성이 그대로 유지되도록 보장합니다. 열 응력 및 관련 변형을 제거하면 우수한 품질의 제품이 보장되며, 경쟁이 치열한 시장에서 탁월한 제품을 제공할 수 있는 능력에 대한 제조업체의 자신감이 강화됩니다.

 

수냉식 UV 레이저 소스는 강력한 성능과 정밀도 외에도 비교할 수 없는 다양성을 제공합니다. 적응성이 뛰어나므로 다양한 결정 방향 및 두께를 포함하여 다양한 실리콘 웨이퍼 유형과 관련된 문제를 극복할 수 있습니다. 이러한 유연성은 프로젝트의 특정 매개변수에 관계없이 일관되고 최적의 드릴링 결과를 보장합니다. 제조업체는 수냉식 UV 레이저 소스가 고유한 요구 사항에 원활하게 적응할 수 있다는 사실을 알고 마이크로전자공학, 태양 에너지, 광전자공학과 같은 분야의 다양한 응용 분야를 자신있게 탐색할 수 있습니다.

 

실리콘 웨이퍼 드릴링에 수냉식 UV 레이저 소스를 구현하면 환경적 이점도 얻을 수 있습니다. 전통적인 드릴링 방법에는 화학 에칭제와 기타 유해 물질을 사용하는 경우가 많아 인간의 건강과 환경에 위험을 초래합니다. 그러나 수냉식 UV 레이저 소스를 사용하면 이러한 화학 물질이 필요하지 않아 보다 안전하고 환경적으로 책임 있는 제조 공정을 촉진할 수 있습니다. 성능 저하 없이 지속 가능성을 우선시함으로써 제조업체는 환경을 고려한 솔루션에 대한 수요 증가에 맞춰 관행을 조정할 수 있습니다.

 

결론적으로, 수냉식 UV 레이저 소스의 통합은 실리콘 웨이퍼 드릴링 기술에 혁명을 일으켰습니다. 전례 없는 성능, 정밀도, 신뢰성, 다용성 및 지속 가능성으로 인해 업계의 역량이 전례 없는 수준으로 향상되었습니다. 제조업체는 이제 놀라운 효율성으로 완벽한 결과를 달성할 수 있으며, 실리콘 웨이퍼 기술에 의존하는 마이크로 전자공학 및 기타 부문의 발전을 촉진할 수 있습니다. 이 분야가 빠른 속도로 계속 발전함에 따라 수냉식 UV 레이저 소스는 혁신과 우수성의 강력한 조합으로 반도체 제조의 미래를 형성하면서 선두에 남아 있습니다.

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