세라믹 마킹기에 적합한 광원은 무엇입니까?
RFH UV 레이저 광원은 세라믹 마킹에 더 적합합니다.
세라믹 재료 마킹, UV 레이저 선택
레이저 마킹은 선명하고 내구성이 있으며 아름답습니다. 새겨진 개체에는 미세한 패턴이 있으며 배치로 표시할 수 있어 기업의 비용을 크게 절감합니다. 파이버 레이저, CO2 레이저, 자외선 레이저 등 레이저 마킹 광원에는 여러 종류가 있지만 자외선 레이저는 차가운 광원으로 마킹 열에 거의 영향을 미치지 않으며 가공 재료의 열 변형 및 열화 문제를 해결합니다. , 빔 품질이 높고 초점이 작은 스폿은 초미세 마킹, 고속, 넓은 적용 범위, 낮은 에너지 소비, 환경 보호, 소모품 없음을 달성할 수 있으며 세라믹 마킹을 위한 최선의 선택입니다.
RFH에서 개발 및 생산하는 Expert Ⅱ 355 시리즈 UV 다이오드 펌핑 펄스 고체 레이저는 출력 범위가 3.0w~5.0w이고 짧은 펄스 폭(<14ns@30K), 우수한 빔 품질(M2<1.2) 및 완벽한 광점 특성(광점 타원율>90%), 13년의 기술 축적은 세라믹 마킹 작업에 완벽하게 적합합니다.
위 제품의 장점 외에도 RFH 레이저는 전력 제어 시스템 기능 모듈을 적시에 업데이트하고 레이저 요구에 따라 기능 모듈을 개선할 수 있는 전원 공급 기술의 독립적인 연구 및 개발의 이점을 가지고 있습니다. 모두가 알고 있듯이 전원 공급 장치와 레이저 사이에는 일대일 대응이 있으며 전원 공급 장치 제어 시스템의 안정성은 레이저가 작동 중 성능을 최대화할 수 있는지 여부를 결정합니다. 이것이 전체 RFH 레이저 시스템이 유사한 제품보다 더 안정적인 중요한 이유입니다.
RFH의 UV 레이저의 강점은 강력한 기술력과 엄격한 품질 관리 시스템 메커니즘에 있습니다. 우리의 기술 연구 개발 팀은 국내외 교수, 전문가 및 의사로 구성되어 있으며 강력합니다. 우리는 응용 공정 연구 개발 부서, 레이저 연구 개발 부서, 전기 연구 개발 부서를 설립했습니다. 우리는 레이저의 각 프로세스에 집착하고 극한의 산업 및 과학 연구 조건에서 안정성을 유지할 수 있도록 전원 공급 장치 + 레이저 + 냉각 시스템 전체 시스템의 안정성을 디버깅합니다. 동일한 안정적인 품질, 일정한 빔 품질, 고효율 및 내구성.
세라믹 마킹기에 적합한 광원은 무엇입니까? RFH 브랜드 UV 레이저가 최선의 선택이라고 자신 있게 말할 수 있습니다!
