-
페인트 제거 및 표면 제거에 uv 레이저를 사용하는 방법
Dec 26 , 2022
UV 레이저 페인트 제거 페인트 제거 및 표면 제거(대상에서 필름 또는 도금을 벗겨내는 프로세스)에 UV 레이저가 어떻게 사용되는지 알아보십시오. UV 레이저 마커를 이용한 페인트 박리의 기본 원리 UV 레이저 제거는 기본 재료 또는 그 아래의 코팅을 노출시키기 위해 플라스틱의 표면 코팅을 제거하는 것입니다. 아래의 변속 레버 처리 예에서는 플라스틱의 검은색 코팅을 제거하여 빛이 그 아래의 유색 재료로 통과할 수 있도록 했습니다. 레이저 기반 페인트 제거는 여러 층의 플라스틱(예: 검정, 빨강 및 녹색 코팅)을 노출시키는 데 유용합니다. UV 레이저 마커를 이용한 페인트 박리의 기본 원리 애플리케이션 설명 차량 스위치에 대조를 만드는 것은 일반적으로 두 가지 방법 중 하나로 수행됩니다. 원하는 내용을 상단에...
더보기
-
열 효과가 낮은 532NM 녹색 나노초 레이저 조각 강화 유리
Feb 23 , 2023
열 효과가 낮은 532NM 녹색 나노초 레이저 조각 강화 유리 방음 유리문은 일반적으로 방폭 및 강화 유리로 만들어지며 방폭 강철 유리의 특성은 전통적인 마크를 사용하는 과정에서 매우 쉽게 깨집니다. 많은 제조업체들이 소비율을 확보하기 위해 많은 방법을 찾아내지만, RFH GREEN NANOSCOND 레이저 라벨링은 파괴율을 잘 조절할 수 있습니다. 광저우의 Chen 씨는 최근 새로운 방폭 강화 유리 생산 라인을 열었습니다. 강화 유리 전제의 불확실성으로 인해 Mr. Chen은 Green Nanosecond Lasers의 특정 작동 및 성능에 대해 더 깊이 이해하기 위해 RFH에 왔습니다. RFH Green NANOSECOND LASERS는 생산 공정 중에 작은 광점을 방출합니다. ...
더보기
-
식품 포장 백 및 상자에 생산 날짜를 표시하는 3W 5W UV 나노초 레이저
Feb 27 , 2023
식품 포장 백 및 상자에 생산 날짜를 표시하는 3W 5W UV 나노초 레이저 식품 포장 백은 식품의 중요한 부분입니다. 제품 홍보를 위해 다양한 스타일의 외부 포장을 디자인할 수 있을 뿐만 아니라 오염으로부터 식품을 보호할 수도 있습니다. 식품 포장 봉투 외부에는 요구 사항 및 표준에 따라 날짜 및 생산 정보를 표시해야 합니다. RFH UV 나노초 레이저의 마킹 방법은 마킹을 보다 편리하고 효율적으로 만듭니다. RFH UV 나노초 레이저 마킹과 기존 잉크젯 마킹 의 차이점은 UV 나노초 레이저가 접촉식 마킹 방식을 변경했으며 작은 광점을 방출하여 비접촉식 마킹을 수행한다는 것입니다. UV 나노초 레이저는 짧은 펄스, 높은 빔 품질 및 높은 피크 출력의 특성을 가지고 있습니다. 저온 냉광원으로 마...
더보기
-
STC 시리즈 355nm UV 고체 레이저 및 RFH uv 레이저란?
Mar 23 , 2023
STC 시리즈 355nm UV 고체 레이저 레이저 헤드와 전원 공급 장치는 개별적이며 레이저 헤드는 콤팩트합니다. 레이저는 내장 패널과 RS232를 통해 제어됩니다. 3C 전자 응용 분야 및 금속 및 비금속의 레이저 마킹, 3D 인쇄, 표면 필름 제거 등에 널리 사용됩니다. 2007년부터 RFH는 중국 최고의 고체 자외선 레이저에 집중하고 있습니다. RFH uv 레이저 각인 비취 케이스에 감사드립니다. S9 시리즈 3W 5W 10W UV 레이저 시장 수요를 충족하기 위해 RFH는 2020년에 S9 시리즈 UV 레이저를 새로 개발했습니다. S9 시리즈 UV 레이저는 동급 제품과 비교할 때 견고한 밀봉 캐비티, 매우 작은 크기, 단순하고 견고하며 높은 안정성, 고효율, 높은 신뢰성 및 우수한 레이저 ...
더보기
-
Coherent의 UV 레이저 355nm 100mW
Mar 23 , 2023
Genesis CX SLM-시리즈 단일 세로 TEM00 모드는 단일 주파수 및 간섭계 애플리케이션을 위한 것이며 최대 4W의 출력 파워. 코히런트의 고유한 OPSL(Optically Pumped Semiconductor Laser) 기술을 기반으로 하는 Genesis CX SLM 시리즈는 가장 까다로운 응용 분야를 위한 단일 주파수 작동을 특징으로 합니다. 이것은 출력 전력 전반에 걸쳐 안정적인 빔 매개변수, 회절 제한 빔, 최저 노이즈 및 높은 안정성과 결합하여 편리한 패키지에서 비교할 수 없는 레이저 성능을 제공합니다. 또한 Genesis CX SLM 시리즈는 전면 패널 인터페이스가 있거나 없는 상태로 제공됩니다. 그러나 이 소프트웨어는 기존 디자인과 인터페이스할 수 있을 뿐만 아니라 독립형...
더보기
-
RPMC 자외선 레이저란?
Mar 24 , 2023
RPMC 자외선 레이저란? 자외선 레이저(UV 레이저) emit UV laser light, typically in the range of 200 nm to 389 nm. UV lasers offer extremely high photon energy, which opens up a wide range of applications that visible and infrared laser sources can’t address. The most common UV laser sources are the third and fourth harmonics on Nd: YAG, providing 355 nm and 266 nm wavelengths, respectively. It’s important to...
더보기
-
Ekspla NL200 시리즈 DPSS 공랭식 나노초 레이저 정보
Mar 24 , 2023
NL200 시리즈 DPSS 공랭식 나노초 레이저는 kHz 반복률에서 높은 펄스 에너지를 제공합니다. End-pumped 설계로 인해 이 레이저는 산업 및 R&D의 다양한 레이저 장비에 컴팩트하고 쉽게 통합됩니다. 짧은 나노초 펄스 지속 시간, 가변 반복률 및 외부 TTL 트리거링을 특징으로 하는 나노초 다이오드 펌핑 NL200 시리즈 Q 스위치 레이저는 재료 가공, LCD 및 OLED 디스플레이 패널과 같이 더 높은 펄스 에너지가 필요한 특정 응용 분야를 위한 우수하고 비용 효율적인 소스입니다. 수리, 절제, 마킹, 제판, 레이저 클리닝, 레이저 증착 등. 이 레이저는 532nm, 355nm, 266nm 및 213nm 파장에 대한 고조파 생성 모듈을 장착할 수 있습니다. 뛰어난 에너지 안...
더보기
-
AVIA LX 나노초 레이저 - 코히런트
Mar 24 , 2023
AVIA LX Nanosecond Lasers - Coherent PCB/SIP 드릴링, 절단, 트렌칭, 디패널링과 더불어 Flex/LCP/LTCC 처리를 수행하여 열 영향 영역을 최소화하고 사후 세척이 필요하지 않습니다. AVIA LX는 높은 펄스 에너지와 반복률을 UV 및 녹색 출력과 결합하여 세미 팹, 고급 패키징 및 태양 전지 제조에서 신속하고 정밀한 재료 처리를 가능하게 합니다. 고출력 레이저 소스에 탁월한 신뢰성을 제공합니다. 게다가 RFH는 중국 최고의 고체 자외선 레이저 제조업체입니다. 이제 20watt 고출력 uv 레이저 소스 로 세라믹을 절단하는 방법을 보여 드리겠습니다. 20w uv 레이저는 무엇입니까: https://www.rfhtech.com...
더보기
-
초소형 UV 나노초 레이저 MKS Instruments의 Spectra-Physics® Explorer® One™ HP HE 355-200
Mar 27 , 2023
초소형 UV 나노초 레이저 MKS Instruments의 Spectra-Physics® Explorer® One™ HP HE 355-200은 고에너지 자외선 레이저로 현재 Explorer One HP 초소형 활성 Q 스위치 레이저 라인보다 펄스 에너지가 3.5배 높습니다. 레이저는 200μJ 이상의 펄스 에너지, 4W 이상의 평균 전력, 15ns 미만의 펄스 폭 및 동적 폐쇄 루프 펄스 에너지 제어를 달성합니다. E-Track™ 능동 펄스 에너지 제어는 최적의 프로세스 제어를 위해 다양한 게이팅 작업으로 동적 펄스 에너지 조정을 가능하게 하는 폐쇄 루프 알고리즘을 특징으로 합니다. 잠재적인 응용 분야에는 박막의 구조화 및 제거, 마이크로 저항기 및 커패시터의 트리밍, 의료 기기, 플라스틱 및 유리의 고대비 ...
더보기
-
Crystal Laser Systems의 UV 나노초 고체 레이저의 소형 MOPA 시리즈
Mar 27 , 2023
The compact MOPA series of UV nanosecond solid-state lasers from Crystal Laser Systems GmbH feature wavelengths of 355, 266, and 213 nm. The laser systems are based on a diode-pumped, passively Q-switched YAG laser, which is followed by a diode-pumped optical amplifier. This MOPA principle enables higher pulse energies than those from unamplified systems. Different models with pulse energie...
더보기
-
Ekspla NL230 시리즈 다이오드 펌프 단나노초 레이저
Mar 27 , 2023
NL230 시리즈 다이오드 펌프 짧은 나노초 레이저는 고강도, 고휘도 펄스를 생성하도록 설계되었으며 재료 제거, LIDAR(Light Detection And Ranging), 원격 감지, 질량 분광법, OPO, Ti:Sapphire와 같은 응용 분야를 대상으로 합니다. 또는 염료 레이저 펌핑 등. 다이오드 펌핑을 사용하면 하루 약 8시간의 작업 시간 동안 3년 이상 연장된 기간 동안 유지 보수가 필요 없는 레이저 작동이 가능합니다. 레이저 헤드 구성 요소는 견고하고 밀봉되고 정밀하게 가공된 모놀리식 알루미늄 블록에 배치되기 때문에 이 레이저는 LIBS(레이저 유도 파괴 분광법)와 같은 응용 분야를 사용하여 열악한 산업 환경에서 안정적으로 작동할 수 있습니다. 2차 및 3차 고조파 ...
더보기
-
조정 가능한 Ce:LiCaAlF 고체 UV 레이저(레이저 펌프 포함)
Mar 28 , 2023
조정 가능한 Ce:LiCaAlF 고체 UV 레이저(레이저 펌프 포함) 레이저 펌프가 있는 고체 UV 레이저 제품군. 이러한 장치의 활성 매체는 UV 스펙트럼 범위의 빛을 증폭합니다. 달성된 레이저 방출은 비선형 변환의 결과가 아닙니다. Yang and DeLuca, Appl.Phys.Lett., 31, 594 (1977) 레이저 전이 – 불화물 결정에서 Ce3+ 이온의 5d-4f 전이 전기 쌍극자 허용 UV 및 VUV 스펙트럼 범위에 국한됨 높은 형광 양자 수율 광대역(진동 확장으로 인한 40nm) 중요한 스톡스 이동 작업 전환 단면의 높은 값 넓은 밴드 갭과 광역학적 과정의 억제로 인해 활성 매질의 분해가 배제되었습니다. 284nm – 315nm 및 305...
더보기
