나노초 고체 레이저는 0.002mm 고정밀도로 세라믹 로고 문자 패턴을 조각합니다.
Jiangsu 고객은 세라믹 표면에 LOGO 단어 조각을 위해 S9 UV 고체 레이저를 구입했습니다.
RFH UV 고체 레이저는 세라믹 마킹 및 레터링에 사용되며 단단한 세라믹에 명확한 단어와 이미지를 남길 수 있습니다.
자외선 레이저는 차가운 광원입니다. 열 영향은 레이저 절단 또는 마킹 중에 특히 작습니다. 펄스 폭이 좁고 피크 전력이 더 높습니다. 세라믹 및 사파이어와 같이 파괴 임계값이 높은 재료에 대한 손상을 쉽게 뚫을 수 있습니다. 따라서 높은 Damage Threshold를 요구하는 고분자 소재 가공에 적합합니다.
레이저 파장:
354.7nm평균 출력 전력:
3W-10W @30kHz펄스 폭:
<12ns @ 30kHz맥박 반복률:
10-200kHz빔 품질(㎡):
<1.2빔 직경:
0.8±0.2mm Measured at window빔 전체 발산 각도:
<2mrad빔 원형:
>90%펄스 대 펄스 안정성:
<2% RMS/@30kHz평균 전력 안정성:
<5% RMS/8hr빔 포인팅 드리프트:
<30μrad/℃편광 비율:
>100:1편광 방향:
Horizontal운영 임시 직원. & RH:
10℃ to 30℃ | <80%보관 온도 & RH):
-20℃ to 65℃ | <90 %전기 요구 사항:
100-240VAC |50/60Hz | Single phase전력 소비:
<500W보증:
18months
나노초 고체 레이저는 0.002mm 고정밀도로 세라믹 로고 문자 패턴을 조각합니다.
Jiangsu 고객은 세라믹 표면에 LOGO 단어 조각을 위해 S9 UV 고체 레이저를 구입했습니다.
RFH UV 고체 레이저는 세라믹 마킹 및 레터링에 사용되며 단단한 세라믹에 명확한 단어와 이미지를 남길 수 있습니다.
자외선 레이저는 차가운 광원입니다. 열 영향은 레이저 절단 또는 마킹 중에 특히 작습니다. 펄스 폭이 좁고 피크 전력이 더 높습니다. 세라믹 및 사파이어와 같이 파괴 임계값이 높은 재료에 대한 손상을 쉽게 뚫을 수 있습니다. 따라서 높은 Damage Threshold를 요구하는 고분자 소재 가공에 적합합니다.
월요일에 Jiangsu의 Mr. Li는 세라믹 표면에 로고를 새기는 데 사용할 S9 자외선 고체 레이저를 주문했습니다.
