자외선 고체 레이저는 고화질과 섬세한 세라믹 표면에 로고 단어를 새깁니다.
나노초 고체 레이저는 0.002mm 고정밀도로 세라믹 로고 문자 패턴을 조각합니다.
Jiangsu 고객은 세라믹 표면에 LOGO 단어 조각을 위해 S9 UV 고체 레이저를 구입했습니다.
RFH UV 고체 레이저는 세라믹 마킹 및 레터링에 사용되며 단단한 세라믹에 명확한 단어와 이미지를 남길 수 있습니다.
자외선 레이저는 차가운 광원입니다. 열 영향은 레이저 절단 또는 마킹 중에 특히 작습니다. 펄스 폭이 좁고 피크 전력이 더 높습니다. 세라믹 및 사파이어와 같이 파괴 임계값이 높은 재료에 대한 손상을 쉽게 뚫을 수 있습니다. 따라서 높은 Damage Threshold를 요구하는 고분자 소재 가공에 적합합니다.
레이저 파장:
354.7nm평균 출력 전력:
3W-10W @30kHz펄스 폭:
<12ns @ 30kHz맥박 반복률:
10-200kHz빔 품질(㎡):
<1.2빔 직경:
0.8±0.2mm Measured at window빔 전체 발산 각도:
<2mrad빔 원형:
>90%펄스 대 펄스 안정성:
<2% RMS/@30kHz평균 전력 안정성:
<5% RMS/8hr빔 포인팅 드리프트:
<30μrad/℃편광 비율:
>100:1편광 방향:
Horizontal운영 임시 직원. & RH:
10℃ to 30℃ | <80%보관 온도 & RH):
-20℃ to 65℃ | <90 %전기 요구 사항:
100-240VAC |50/60Hz | Single phase전력 소비:
<500W보증:
18months
자외선 고체 레이저는 고화질과 섬세한 세라믹 표면에 로고 단어를 새깁니다.
RFH UV 고체 레이저는 세라믹 마킹 및 레터링에 사용되며 단단한 세라믹에 명확한 단어와 이미지를 남길 수 있습니다.
자외선 레이저는 차가운 광원입니다. 열 영향은 레이저 절단 또는 마킹 중에 특히 작습니다. 펄스 폭이 좁고 피크 전력이 더 높습니다. 세라믹 및 사파이어와 같이 파괴 임계값이 높은 재료에 대한 손상을 쉽게 뚫을 수 있습니다. 따라서 높은 Damage Threshold를 요구하는 고분자 소재 가공에 적합합니다.
월요일에 Jiangsu의 Mr. Li는 세라믹 표면에 로고를 새기는 데 사용할 S9 자외선 고체 레이저를 주문했습니다.
