자외선 나노초 레이저는 최근 몇 년 동안 레이저 가공 시장에서 눈부신 별이 되었습니다.

자외선 나노초 레이저는 수십에서 수백 나노초 범위의 펄스 지속 시간과 자외선의 출력 파장을 갖는 펄스 레이저를 의미합니다. 짧은 파장, 높은 재료 흡수율, 높은 피크 전력, 작은 열 효과 및 높은 유연성의 장점이 있습니다. 355nm 자외선 나노초 레이저는 주로 산업에서 사용되며 초미세 가공 고급 시장에서 재료 절단, 드릴링, 마킹 및 에칭에 널리 사용됩니다. 자외선 나노초 레이저는 식품, 3C 전자 및 반도체의 미세 마킹, 절단 및 제판 분야에서 볼 수 있습니다.

따라서 UV 나노초 레이저는 최근 몇 년 동안 레이저 가공 시장에서 눈부신 별이 되었으며 출하량이 빠르게 증가했습니다. 언론 보도에 따르면 2015년 우리나라의 자외선 레이저 출하량은 2,035대에 이르렀고, 2019년에는 19,000대에 이르렀으며 그 중 자외선 나노초 레이저는 17,465대가 출하되어 92%를 차지했다.

눈부신 출하 데이터 뒤에는 UV 나노초 레이저의 고유한 장점과 불가분의 관계가 있습니다.

- 냉간 가공

자외선 레이저는 자외선을 발생시키는 레이저의 일종이다. 파장이 짧고 단일 광자 에너지가 높습니다. 재료 표면에 작용하면 재료 표면의 분자 결합을 직접 파괴할 수 있습니다. 이 프로세스는 "열 손상" 및 "열 손상"을 유발하지 않습니다. 재료는 가열이나 열 변형 없이 제거되고 처리된 영역의 내층과 주변으로 벗겨집니다. 가공된 재료의 가장자리가 매끄럽고 탄화도가 매우 낮습니다. 약 20ns의 매우 좁은 펄스 폭으로 소위 ""냉간 가공".

——작은 반점

UV 광선은 초점을 맞추기 쉽기 때문에 빔 품질이 우수한(M2<1.2) UV 레이저의 최소 초점 지점은 10um에 도달할 수 있습니다. 매우 작은 스폿에는 세 가지 처리 이점이 있습니다. 첫째, 매우 정확한 처리 위치를 달성할 수 있습니다. 둘째, 열영향부가 작다. 셋째, 선이 더 가늘고 미크론 수준의 미세한 반점을 통해 매우 미세한 작은 자국을 얻을 수 있어 위조 방지 및 추적 기능을 제공합니다. 제품 식별 및 추적성을 달성하기 위해 매우 작은 영역에 표시할 수 있으며 위조 방지에도 도움이 됩니다.

- 높은 흡수율

대부분의 가공 재료는 자외선 대역에서 흡수율이 높기 때문에 자외선 레이저는 유리, 세라믹, 실리콘 웨이퍼, 사파이어와 같은 얇고 단단하며 깨지기 쉬운 재료를 절단하고 스크라이브하는 데 자주 사용됩니다. 깔끔하며 다른 레이저 소스에는 없는 고유한 장점이 있습니다. 필름, 플라스틱, FPC 등과 같은 열에 민감한 재료의 얕은 레이저 코딩, 마킹의 대비가 높고 매우 좋은 가공 효과를 얻을 수 있습니다.

- 강력한 확장성

고객 애플리케이션의 지속적인 확장으로 제조 분야의 정밀 가공에 대한 요구 사항이 증가하고 있으며 가공 치수 정확도, 가공 위치 정확도, 가공 모서리 및 기타 지표에 대한 요구 사항이 점점 높아지고 있습니다. 요구 사항은 상당히 높으며 이러한 움직임은 자외선 레이저의 지속적인 기술 업데이트와 급속한 발전을 강요하고 있으며 자외선 나노초 레이저는 더 높은 출력과 더 높은 반복 주파수 방향으로 발전하고 있습니다.

오늘날 자외선 레이저의 출력은 3W, 5W에서 10W, 20W 및 30W 이상이며 반복 주파수도 점점 높아져 수백 KHz에 도달할 수 있습니다. 전력 및 반복 빈도가 증가함에 따라 절단 분야의 적용도 더욱 광범위하여 커버 필름, PCB 보드, 얇은 금속 및 실리콘 웨이퍼와 같은 재료에 적합합니다. 전통적인 절단 공정과 비교할 때 레이저 절단은 더 유연하며 다양한 곡선, 작은 각도 및 모따기의 절단 응용 분야에서 더 효율적입니다.

재료 가공 응용 분야에서 UV 가공은 기본적으로 정밀 냉간 가공과 동의어가 되었습니다. 5G, 신에너지, 디스플레이 패널 등 신흥 산업의 발전으로 고정밀 칩, 고해상도 화면, 다양한 플렉시블 소재에 대한 수요가 강해 더 많은 비즈니스 기회가 생겨났습니다. 앞으로 자외선 레이저에 대한 시장 수요도 완전히 풀릴 것으로 예상되며, 더 정확하고 정밀한 응용 시나리오에서 없어서는 안 될 중요한 힘이 될 것입니다.