10W-15W uv laser

UV 레이저 커팅 실리콘 웨이퍼: 혁신적인 기술

UV 레이저 절단은 고출력 자외선 레이저 빔을 사용하여 재료를 정밀하게 절단하는 프로세스입니다. 이 프로세스에는 절단할 영역을 정의하도록 설계된 마스크의 사용이 포함됩니다. 레이저가 트리거되면 사전 정의된 영역을 통해 폭발하여 마스크 패턴을 따라 정확하게 재료를 절단합니다.

 

  • 레이저 파장:

    354.7nm
  • 평균 출력 전력:

    10W/12W/15W @40kHz
  • 펄스 폭:

    <20ns @40kHz
  • 맥박 반복률:

    10-200kHz
  • 공간 모드:

    TEM00
  • 빔 품질(㎡):

    <1.2
  • 빔 직경:

    0.8±0.1mm Measured at window
  • 빔 전체 발산 각도:

    <2mrad
  • 빔 원형:

    >90%
  • 펄스 대 펄스 안정성:

    <3% RMS/@30kHz
  • 평균 전력 안정성:

    <5% RMS/8hr
  • 빔 포인팅 드리프트:

    <25μrad/℃
  • 편광 비율:

    >100:1
  • 편광 방향:

    Horizontal
  • 운영 임시 직원. & RH:

    10℃ to 35℃ | <80%
  • 보관 온도 & RH:

    10℃ to 35℃ | <90 %
  • 전기 요구 사항:

    100-240VAC |50/60Hz | Single phase
  • 전력 소비:

    <800W
  • 보증:

    18months
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  • 제품 상세 정보
  • 동영상

자외선 레이저

UV 레이저 커팅 실리콘 웨이퍼: 혁신적인 기술

실리콘 웨이퍼 절단

마이크로 전자 공학의 세계에서 실리콘 웨이퍼 생산은 제조 공정의 중요한 부분을 형성합니다. 이 웨이퍼는 컴퓨터, 스마트폰 및 기타 전자 장치와 같은 장치의 빌딩 블록인 반도체의 기초입니다. 수년에 걸쳐 실리콘 웨이퍼의 생산을 최적화하기 위해 다양한 제조 기술이 사용되었습니다. 이들 중 가장 혁신적인 것 중 하나는 UV 레이저 절단 기술을 사용하는 것입니다 .

 

UV 레이저 절단은 고출력 자외선 레이저 빔을 사용하여 재료를 정밀하게 절단하는 프로세스입니다. 이 프로세스에는 절단할 영역을 정의하도록 설계된 마스크의 사용이 포함됩니다. 레이저가 트리거되면 사전 정의된 영역을 통해 폭발하여 마스크 패턴을 따라 정확하게 재료를 절단합니다.

 

실리콘 웨이퍼 제조에 UV 레이저 절단 기술을 적용하여 업계에 혁명을 일으켰습니다. 정밀성과 정확도는 실리콘 웨이퍼 생산에서 매우 중요하며 UV 레이저 절단은 이러한 품질을 풍부하게 제공합니다. 높은 절단 속도, 높은 정확도 및 가장 얇은 재료도 절단할 수 있는 능력을 갖춘 UV 레이저 절단은 실리콘 웨이퍼 생산을 위한 선택 사항이 되었습니다.

 

다른 방법에 비해 UV 레이저 절단의 가장 중요한 장점 중 하나는 매우 얇은 재료를 손상 없이 정확하게 절단할 수 있다는 것입니다. 이는 두께가 1밀리미터 미만인 웨이퍼를 다룰 때 특히 중요합니다. 이 과정에서 연기나 열이 발생하지 않아 깨끗하고 정밀한 절단이 가능합니다.

 

실리콘 웨이퍼 생산에 UV 레이저 절단 기술을 적용하면 업계에 새로운 기회가 열렸습니다. 이 기술은 생산 속도와 정확성을 향상시켜 비용 절감과 효율성 증가로 이어졌습니다. 또한 특수 용도에 사용할 수 있는 독특한 모양의 웨이퍼를 생산할 수 있게 되었습니다.

 

결론

 

실리콘 웨이퍼 생산에 UV 레이저 절단 기술을 사용하는 것은 업계의 게임 체인저였습니다. 높은 정밀도와 정확성, 향상된 효율성을 제공하고 특수 설계 생산을 위한 새로운 길을 열었습니다. 이 기술은 계속해서 발전해 왔으며 미래로 나아가면서 마이크로전자공학 산업에서 점점 더 중요한 역할을 하게 될 것이 확실합니다.

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